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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Angular distributions of sputtered atoms from semiconductor targets at grazing ion beam incidence angles
 
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2008
Conference Paper
Title

Angular distributions of sputtered atoms from semiconductor targets at grazing ion beam incidence angles

Abstract
Der Zerstäubungsprozess von Germanium und Silicium wird experimentell und durch Monte-Carlo Simulationen untersucht. Insbesondere wird der streifende Ioneneinfall untersucht, da hier die Winkelverteilungen zerstäubter Atome asymmetrisch zum Polarwinkel sind. Ein verbessertes analytisches Modell zur Beschreibung von Winkelverteilungen wird vorgestellt, welches zusätzlich vom Ioneneinfallswinkel abhängig ist.
Author(s)
Sekowski, M.
Burenkov, A.  
Hernández-Mangas, J.
Martinez-Limia, A.
Ryssel, H.
Mainwork
Ion implantation technology 2008. 17th International Conference on Ion Implantation Technology, IIT 2008  
Conference
International Conference on Ion Implantation Technology (IIT) 2008  
Open Access
File(s)
Download (142.74 KB)
Rights
Use according to copyright law
DOI
10.1063/1.3033602
10.24406/publica-r-359849
Language
English
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Keyword(s)
  • Zerstäubung

  • Germanium

  • Silicium

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