Verfahren zur Herstellung einer Wellenleiterstruktur und Wellenleiterstruktur

Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Wellenleiterstruktur (1) angegeben, mit den Schritten:a) Bereitstellen einer Wellenleiterschicht (2), die Lithiumniobat oder Lithiumtantalat aufweist;b) Aufbringen einer Hartmaskenschicht (3) und einer Maskenschicht (4) auf der Wellenleiterschicht (2);c) lithographisches Strukturieren der Maskenschicht (4);d) trockenchemisches Ätzen zum Strukturieren der Hartmaskenschicht (3) mittels der Maskenschicht (4);e) trockenchemisches Ätzen zum Strukturieren der Wellenleiterschicht (2) in einen Wellenleiter (20) mittels der Hartmaskenschicht (3); undf) Nachbehandeln der Wellenleiterschicht (2), wobei in einem ersten Ätzschritt die Hartmaskenschicht (3) entfernt wird und in einem zweiten Ätzschritt (4) Redeposite an den Seitenflanken entfernt werden.Weiterhin wird eine Wellenleiterstruktur (1) angegeben.