Verfahren zur Herstellung eines Schichtwellenleiters für nichtlineare integrierte Optik

Vorgeschlagen wird ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtwellenleiters (6) für nichtlineare integrierte Optik, mit den Schritten:i) Bereitstellen eines Trägersubstrats (1) mit einer oder mehreren Trägersubstrat-Schichten, wobei die eine oder die oberste Trägersubstrat-Schicht eine Brechzahl nTaufweist;ii) übereinander Aufbringen mehrerer Wellenleiter-Schichten (2) auf das Trägersubstrat (1);iii) Ausformen des Schichtwellenleiters (6) durch laterale Strukturierung mindestens einer Wellenleiter-Schicht (2);wobei das Aufbringen einer oder mehrerer Wellenleiter-Schichten (2) in ii) und das Ausformen mindestens einer Wellenleiter-Schicht (2) in iii) a) nacheinander oder b) abwechselnd erfolgt.Wesentlich dabei ist, dass in Schritt ii) als Wellenleiter-Schichten (2) mindestens eine optisch nichtlineare Schicht (3) und darüber und/oder darunter mindestens eine hochbrechende Schicht (4) mit einer Brechzahl nHaufgebracht werden, wobei nH> nTgilt.