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Fraunhofer-Gesellschaft
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Patent
Title

MEMS-Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines MEMS-Bauelements

Abstract
Ein Verfahren zum Herstellen eines MEMS-Bauelements umfasst ein Bereitstellen eines Halbleitersubstrats, ein Ausführen eines anisotropen nasschemischen Ätzprozesses in dem Halbleitersubstrat, um zumindest ein bewegliches Element aus dem Halbleitersubstrat herauszubilden, und ein Erzeugen eines Schichtstapels, so dass das bewegliche Element in einer Kavität und in einer ersten MEMS-Schicht zwischen einer zweiten MEMS-Schicht und einer dritten MEMS-Schicht angeordnet ist, um mit einem in der Kavität angeordneten Fluid zu interagieren.
Inventor(s)
Schenk, Harald  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Langa, Sergiu  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Link to:
Espacenet
Patent Number
DE102023211980 A1
Publication Date
June 5, 2025
Language
German
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
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