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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Schichtsystem mit Antibeschlag- und Antireflex-Eigenschaften und Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems
 
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Patent
Title

Schichtsystem mit Antibeschlag- und Antireflex-Eigenschaften und Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems

Abstract
Es wird ein Schichtsystem (100) mit einem Substrat (1), das zumindest an einer Oberfläche (10) ein Antibeschlagmaterial (2) aufweist, angegeben, wobei auf der Oberfläche (10) eine wasserdurchlässige Zwischenschicht (4) angeordnet ist und auf der wasserdurchlässigen Zwischenschicht (4) eine wasserdurchlässige Nanostruktur (5) mit einer Vielzahl von nebeneinander angeordneten Säulen (55) angeordnet ist.Außerdem wird ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems (100) angegeben.
Inventor(s)
Schulz, Ulrike  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
Rickelt, Friedrich  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
Gärtner, Anne  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
Gratzke, Nancy  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
Schröder, Sven  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
Link to Espacenet
https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=EPODOC&II=0&ND=3&adjacent=true&locale=de_EP&FT=D&date=20221117&CC=DE&NR=102021112288A1&KC=A1
Patent Number
DE102021112288 A1
Publication Date
November 17, 2022
Language
German
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
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