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Patent
Title
Schichtsystem mit Antibeschlag- und Antireflex-Eigenschaften und Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems
Abstract
Es wird ein Schichtsystem (100) mit einem Substrat (1), das zumindest an einer Oberfläche (10) ein Antibeschlagmaterial (2) aufweist, angegeben, wobei auf der Oberfläche (10) eine wasserdurchlässige Zwischenschicht (4) angeordnet ist und auf der wasserdurchlässigen Zwischenschicht (4) eine wasserdurchlässige Nanostruktur (5) mit einer Vielzahl von nebeneinander angeordneten Säulen (55) angeordnet ist.Außerdem wird ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems (100) angegeben.
Inventor(s)
Patent Number
DE102021112288 A1
Publication Date
November 17, 2022
Language
German