Verfahren zur direkten Widerstandsbeheizung oder Analyse einer Füllung in einem verfahrenstechnischen Apparat

Beschrieben und dargestellt ist ein Verfahren zur direkten Widerstandsbeheizung einer Füllung (2) in einem verfahrenstechnischen Apparat (1) mit einer Mehrzahl von über einen ersten Hüllflächenanteil (7,8) des Apparats (1) verteilt angeordneten und wenigstens teilweise über die Füllung (2) in einer elektrisch leitenden Verbindung stehenden Elektroden (9), wobei wenigstens ein erstes Paar von Elektroden (9) oder eine erste Gruppe von Elektroden (14,22,25,26) in einem ersten, höchstens 45 % des Querschnittsumfangs umfassenden ersten Umfangsabschnitt (UA) und wenigstens ein zweites Paar von Elektroden (9) oder eine zweite Gruppe von Elektroden (15,23) in einem zweiten, höchstens 45 % des Querschnittsumfangs umfassenden Umfangsabschnitt (UA) angeordnet ist und wobei sich der erste Umfangsabschnitt (UA) und der zweite Umfangsabschnitt (UA) allenfalls teilweise überlappen. Damit der verfahrenstechnische Apparat ohne übermäßigen Aufwand effektiv und zuverlässig betrieben werden kann, ist vorgesehen, dass in einem ersten Zeitintervall an das wenigstens eine erste Paar von Elektroden (9) oder die wenigstens eine erste Gruppe von Elektroden (14,22,25,26) eine um wenigstens 20 % größere elektrische Spannung als an andere Elektroden (9) oder eine andere Gruppe von Elektroden (9) angelegt wird, dass in einem zweiten Zeitintervall an wenigstens das wenigstens eine zweite Paar von Elektroden (9) oder die wenigstens eine zweite Gruppe von Elektroden (15,23) eine um wenigstens 20 % größere elektrische Spannung als an andere Elektroden (9) oder eine andere Gruppe von Elektroden (9) angelegt wird und dass das erste Zeitintervall und das zweite Zeitintervall jeweils vielfach sowie einander abwechselnd vorgesehen werden.