Vorrichtung zur Ausbildung von organischen Leuchtdioden auf einer dreidimensional geformten Oberfläche eines Substrats

Mit der Vorrichtung werden auf einer dreidimensional geformten Oberfläche eines Substrats die Elektroden und/oder eine organische Schicht oder ein organisches Schichtsystem einer organischen Leuchtdiode unter Vakuumbedingungen ausgebildet. Es ist mindestens eine punktförmige Vakuumbeschichtungsquelle, eine Maske, in der mindestens eine Durchbrechung ausgebildet ist, und ein Träger für das jeweilige Substrat vorhanden. Die Maske ist so geformt, dass sie der Oberflächenkontur des dreidimensional geformten Oberflächenbereichs des Substrats, auf dem eine organische Leuchtdiode ausgebildet werden soll, entspricht und in einem konstanten Abstand zu diesem Oberflächenbereich angeordnet ist. Die Vakuumbeschichtungsquelle und/oder das Substrat sind an mindestens einem Ausrichtsystem angeordnet. Die Vakuumbeschichtungsquelle und/oder das Substrat mit der Maske können in drei Achsrichtungen translatorisch bewegt um zwei senkrecht zueinander ausgerichtete Achsen verschwenkt werden. Ein Ausrichtungssystem ist an eine elektronische Steuereinrichtung angeschlossen, die ausgebildet ist die Vakuumbeschichtungsquelle und/oder den dreidimensional geformten Oberflächenbereich, so in Bezug zueinander auszurichten, dass die jeweilige Elektrode oder organische Schicht über ihre gesamte Oberfläche homogen ausgebildet wird.