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Patent
Title
Vorrichtung und Verfahren zur Abtastung einer Zielebene mit mehreren Laserstrahlen, insbesondere zur Lasermaterialbearbeitung
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Abtastung einer Zielebene mit mehreren Laserstrahlen, insbesondere zur Lasermaterialbearbeitung. Die Vorrichtung weist wenigstens zwei Laserstrahlquellen, für jede der Laserstrahlquellen eine Ablenkeinrichtung zur dynamischen Ablenkung eines von der jeweiligen Laserstrahlquelle emittierten Laserstrahls, eine oder mehrere Fokussieroptiken zur Fokussierung der Laserstrahlen in die Zielebene und eine Überlagerungsanordnung zur Kombination der durch die Ablenkeinrichtung propagierten Laserstrahlen auf. Die Laserstrahlquellen emittieren dabei Laserstrahlen mit unterschiedlicher Zentralwellenlänge, wobei die Überlagerungsanordnung einen oder mehrere dichroitische Spiegel aufweist, durch die die Laserstrahlen kombiniert werden. Das Verfahren und die Vorrichtung ermöglichen einen vollständigen Überlapp der Abtastbereiche der einzelnen Laserstrahlen.
Patent Number
DE102020119702 A1
Publication Date
February 27, 2022
Language
German