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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. A-Si/SiO2 nanolaminates for tuning the complex refractive index and band gap in optical interference coatings
 
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February 15, 2024
Journal Article
Title

A-Si/SiO2 nanolaminates for tuning the complex refractive index and band gap in optical interference coatings

Abstract
A-Si/SiO2 nanolaminates are deposited by magnetron sputtering and show a decreasing absorption when the a-Si single-layer thickness is reduced from 2.4nm to 0.7nm. Moreover, an increase of the Tauc band gap by 0.18eV is measured. Experimental Tauc band gaps are compared to calculated effective band gaps, utilizing a numerical Schrödinger solver. Further, it is demonstrated that the refractive index can be controlled by adjusting the a-Si and SiO2 single-layer thicknesses in the nanolaminates. The nanolaminates are optically characterized by spectroscopic ellipsometry, transmittance, and reflectance measurements. Additionally, TEM images reveal uniform, well-separated layers, and EDX measurements show the silicon and oxygen distribution in the nanolaminates.
Author(s)
Kreuzer, Karl
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Henning, Philipp
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Vergöhl, Michael  
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Bruns, Stefan  
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Melzig, Thomas  
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Patzig, Christian  
Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS  
Feder, René
Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS  
Journal
Applied optics  
DOI
10.1364/AO.515083
Language
English
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS  
Keyword(s)
  • atomic layer deposition

  • optic

  • silicon dioxide

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