Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates mit einer Parylene-Schicht

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten eines bandförmigen Substrates (2) mit einer Parylene-Schicht innerhalb einer Arbeitskammer (1), umfassenda) eine Abwickelrolle (3) zum Abwickeln des bandförmigen Substrates (2);b) eine Aufwickelrolle (5) zum Aufwickeln des bandförmigen Substrates (5) nach dem Beschichtungsvorgang;c) eine Prozessierrolle (4), welche vom bandförmigen Substrat (2) teilweise umschlungen ist und mittels welcher das bandförmige Substrat (2) an einer Beschichtungszone (5) vorbeiführbar ist;d) ein erstes Gehäuse (10), welches die Beschichtungszone (5) umschließt und welches eine erste Öffnung aufweist, die zum Substrat (2) hin ausgerichtet ist und wobei die erste Öffnung von einem ersten Öffnungsrand (13) umschlossen ist;e) ein zweites Gehäuse (12), welches eine zweite Öffnung aufweist, die zum Substrat (2) hin ausgerichtet ist, wobei die zweite Öffnung von einem zweiten Öffnungsrand (13) umschlossen ist und wobei das zweite Gehäuse (12) das erste Gehäuse (10) umschließt, wodurch das zweite Gehäuse (12) ein Volumen (14) zwischen dem ersten Gehäuse (10) und dem zweiten Gehäuse (12) begrenzt;f) mindestens einen Einlass (18), welcher sich durch eine Wandung des ersten Gehäuses (10) hindurch erstreckt und mittels dessen mindestens ein monomerhaltiges Gas zum Abscheiden der Parylene-Schicht in die Beschichtungszone (5) einbringbar ist;g) mindestens eine Pumpeinrichtung (19), mittels der ein Unterdruck im Volumen (14) zwischen dem ersten Gehäuse (10) und dem zweiten Gehäuse (12) erzeugbar ist.