• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Konferenzschrift
  4. Resistless Ga+ beam lithography for flexible prototyping of nanostructures in different materials by reactive ion etching
 
  • Details
  • Full
Options
2017
Presentation
Title

Resistless Ga+ beam lithography for flexible prototyping of nanostructures in different materials by reactive ion etching

Title Supplement
Presentation held at FOR3NANO: Formation of 3D Nanostructures by Ion Beams, June 28 - June 30, Helsinki, Finland
Author(s)
Rommel, Mathias  orcid-logo
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Rumler, Maximilian
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Haas, Anke  
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Beuer, Susanne  orcid-logo
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Project(s)
Nanostrukturierte Cochleaelektroden zur elektrischen Charakterisierung sowie zur Manipulation von Zellen
Funder
Bundesministerium für Bildung und Forschung BMBF (Deutschland)  
Conference
Workshop "Formation of 3D Nanostructures by Ion Beams" (FOR3NANO) 2017  
DOI
10.24406/publica-fhg-397010
File(s)
N-453466.pdf (8.56 MB)
Rights
Under Copyright
Language
English
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Keyword(s)
  • focused ion beam (FIB)

  • resistless Ga+ lithography

  • etch mask

  • dry etching

  • RIE

  • nanopatterning

  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024