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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Deep energy levels of platinum-hydrogen complexes in silicon
 
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2014
Konferenzbeitrag
Titel

Deep energy levels of platinum-hydrogen complexes in silicon

Weiterer Titel
Tiefe Störstellen von Platin-Wasserstoff-Komplexen in Silicium
Abstract
Hydrogen incorporated into the samples by wet chemical etching interacts with platinum and forms several energy levels in the silicon forbidden band gap. Deep-level transient spectroscopy (DLTS) on Schottky diodes reveals several platinum-hydrogen related levels in p- and n-type silicon. In the n-type silicon, two new platinum-hydrogen related levels at 0.28 and 0.41 eV below the conduction band are reported. Annealing at 377 °C results in the dissociation of their corresponding platinum-hydrogen complexes.
Autor:innen
Badr, Elie
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Pichler, Peter  orcid-logo
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Schmidt, Gerhard
Infineon Technologies Austria AG
Enthalten in:
Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology XV, GADEST 2013  
Konferenz
International Conference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology (GADEST) 2013  
DOI
10.4028/www.scientific.net/SSP.205-206.260
Sprache
Englisch
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Schlagwort(e)
  • DLTS

  • platinum

  • hydrogen

  • silicon

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