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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Low demage magnetron sputtering of TCO films
 
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2012
Conference Paper
Title

Low demage magnetron sputtering of TCO films

Author(s)
Bartzsch, H.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Glöß, D.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Frach, P.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Gittner, M.
TU Dresden
Gottfried, C.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Suzuki, K.
SurfTech Japan
Mainwork
ICCG 2012, Proceedings 9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics  
Conference
International Conference on Coatings on Glass and Plastics (ICCG) 2012  
Language
English
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Keyword(s)

  • ITO

  • TCO

  • magnetron sputtering

  • magnetic field

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