Options
2008
Conference Paper
Title
Mechanisch-tribologisch angepasste ta-C-basierte-Schichtsysteme
Abstract
Reine ta-C-Schichten haben hervorragende Eigenschaften in Bezug auf Härte und Abrasivverschleißfestigkeit, ihr Einsatz wird jedoch beschränkt durch hohe Druckeigenspannung, begrenzte Verformbarkeit und damit Neigung zur Schichtablösung. Durch Mehrfachschichtaufbau oder Dotierung ergeben sich Möglichkeiten, die mechanischen Eigenschaften zu verbessern. Die Lebensdauer von ta-C-Schichten ist bei hoher zyklischer Belastung immer noch begrenzt. Es werden daher die wichtigsten Eigenschaften von Schichtvarianten untersucht, die durch Arc-Verdampfung erzeugt wurden: ta-C (Standard), Graphitkathode, 5x10(exp -3) Pa Ar; a-C (weich) 3 Pa Ar; a-C:N (N-dotiert) 1 Pa N2; a-C:Cu (Cu-dotiert) Graphit-Kupferkathode; a-C:W (W-dotiert) Graphit-Wolfram-Kathode. Rauhigkeitsunterschiede können zwischen den Schichtvarianten nicht festgestellt werden. Alle Schichttypen weisen Druckspannungen auf, aber nur im Fall ta-C (Standard) ist sie signifikant. Die Schichthaftung ist bis auf die a-C:Cu-Schicht verbessert. Bei dieser Schicht konnte eine Verbesserung durch eine ta-C-Unterschicht erreicht werden. Hinsichtlich der Trocken-Reibkoeffizienten sind ta-C, a-C (weich) und a-C:Cu den a-C:N- und a-C:W-Schichten überlegen.. In Bezug auf Schicht- und Gegenkörperverschleiß erwies sich a-C:Cu als bester Schichttyp. Unter geschmierten Bedingungen zeigte ta-C ein ausgezeichnetes Verhalten. Als Schlussfolgerung kann ein Schichtaufbau in Form einer Gradientenschicht oder als Schichtstapel abgeleitet werden. Entnommen aus <a_href="http://www.fiz-technik.de/db/b_tema.htm" target="_blank">TEMA</a>
Language
German
Keyword(s)
tetragonale Kristallstruktur
amorpher Kohlenstoff
Verschleißschutzschicht
Vakuumlichtbogenabscheidung
chemisches Aufdampfen
Gasdruck
Stickstoffzusatz
Kupferzusatz
Wolframzusatz
Rauigkeit
Eigenspannung
Schichtablösung
Belastbarkeit
Reibungskoeffizient
verschleißfeste Beschichtung
Abrasivverschleiß
Gleitgeschwindigkeit
Schmierung