1998
Conference Paper
Title

Optimization of critical ion implantation steps in 0.18 mu m CMOS technology

Author(s)
Burenkov, A.  
Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen IIS  
Wittl, J.
Schwalke, U.
Lorenz, J.  
Ryssel, H.
Mainwork
Conference
Language
English