Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements (10) beschrieben, bei dem eine Oberflächenstruktur (3) durch Implantation von Ionen (2) in das Material eines Substrats (1), einer Schicht oder eines Schichtsystems erzeugt wird, wobei die Oberflächenstruktur (3) eine Strukturhöhe von weniger als 10 nm aufweist. Weiterhin wird ein diffraktives optisches Element (10) mit der Oberflächenstruktur (3) angegeben.