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Fraunhofer-Gesellschaft
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Patent
Title

Verfahren zur Herstellung von Silikon-Substraten oder Silikonkomposit-Substraten, mit dem Verfahren herstellbares Silikon-Substrat oder Silikonkomposit-Substrat sowie dessen Verwendung

Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Silikon-Substraten oder Silikonkomposit-Substraten, bei welchem mindestens ein Silan ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Alkoxysilanen, Hydroxysilanen und Mischungen hiervon bereitgestellt wird, mindestens ein flüssiges Oligosiloxan durch Sol-Gel-Reaktion aus dem mindestens einen Silan hergestellt wird, eine erste Vernetzungsreaktion durchgeführt wird, bei welcher eine zumindest teilweise Vernetzung des mindestens einen Oligosiloxans zu einem Silikonmaterial erfolgt, und eine zweite Vernetzungsreaktion durchgeführt wird, bei welcher in mindestens einem Teilbereich des Silikonmaterials eine weitergehende Vernetzung des Silikonmaterials erfolgt, wobei die erste Vernetzungsreaktion und die zweite Vernetzungsreaktion zueinander orthogonal sind.
Inventor(s)
Clade, Jürgen  
Domann, Gerhard  
Lang, Katharina
Link to Espacenet
https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&FT=D&CC=DE&NR=102019216713A1
Patent Number
102019216713
Publication Date
2021
Language
German
Fraunhofer-Institut für Silicatforschung ISC  
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