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Fraunhofer-Gesellschaft
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Title

Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung

Date Issued
2018
Author(s)
Henfling, Michael
Neumeier, Karl
Trupp, Sabine
Patent No
102017200952
Abstract
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit: Bereitstellen einer Trägerstruktur, die ein Halbleitersubstrat aufweist; Aufbringen oder Einbringen einer Vorläufersubstanz auf oder in die Trägerstruktur; Behandeln der Vorläufersubstanz zum Erzeugen einer porösen Matrixstruktur; Einbringen einer Funktionalisierungssubstanz in die poröse Matrixstruktur.
A method of producing a semiconductor device includes providing a carrier structure having a semiconductor substrate; applying or introducing a precursor substance onto or into the carrier structure, treating the precursor substance for producing a porous matrix structure; introducing a functionalization substance into the porous matrix structure.
Language
Deutsch
Institute
EMFT
Link
https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&FT=D&CC=DE&NR=102017200952A1
Patenprio
DE 102017200952 A1: 20170120
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