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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
 
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Patent
Title

Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung

Other Title
Semiconductor device and method of producing a semiconductor device
Abstract
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit: Bereitstellen einer Trägerstruktur, die ein Halbleitersubstrat aufweist; Aufbringen oder Einbringen einer Vorläufersubstanz auf oder in die Trägerstruktur; Behandeln der Vorläufersubstanz zum Erzeugen einer porösen Matrixstruktur; Einbringen einer Funktionalisierungssubstanz in die poröse Matrixstruktur.

; 

A method of producing a semiconductor device includes providing a carrier structure having a semiconductor substrate; applying or introducing a precursor substance onto or into the carrier structure, treating the precursor substance for producing a porous matrix structure; introducing a functionalization substance into the porous matrix structure.
Inventor(s)
Henfling, Michael  
Neumeier, Karl  
Trupp, Sabine  
Link to Espacenet
https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&FT=D&CC=DE&NR=102017200952A1
Patent Number
102017200952
Publication Date
2018
Language
German
Fraunhofer-Einrichtung für Mikrosysteme und Festkörper-Technologien EMFT  
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