Solarzelle mit einer amorphen Siliziumschicht und Verfahren zum Herstellen solch einer photovoltaischen Solarzelle

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer photovoltaischen Solarzelle, folgende Verfahrensschritte umfassend: A Aufbringen einer Tunnelschicht mittelbar oder unmittelbar auf eine Rückseite eines Siliziumsubstrates; B Aufbringen einer Siliziumschicht mittelbar oder unmittelbar auf die Tunnelschicht, welche Siliziumschicht mit einem ersten Dotierstoff eines ersten Dotierungstyps dotiert ist; C Erzeugen einer Mehrzahl alternierend angeordneter Dotierbereiche mittels Implantation eines zweiten Dotierstoffs eines zweiten Dotierungstyps, welcher zweite Dotierungstyp zu dem ersten Dotierungstyp entgegengesetzt ist; Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass in Verfahrensschritt B die Siliziumschicht als amorphe Siliziumschicht abgeschieden wird und in Verfahrensschritt C die Implantation des zweiten Dotierstoffes in die amorphe Siliziumschicht erfolgt.; Die Erfindung betrifft weiterhin eine photovoltaische Solarzelle.