Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht

Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht auf einem Substrat (10) angegeben, umfassend die Verfahrensschritte: - Erzeugung einer ersten Nanostruktur (11) in einem ersten Material mit einem ersten Plasmaätzprozess, wobei das erste Material das Material des Substrats (10) oder das Material einer auf das Substrat (10) aufgebrachten Schicht (1) aus einem ersten organischen Material ist, - Aufbringen einer Schicht (2) aus einem zweiten Material auf die erste Nanostruktur (11), wobei das zweite Material ein organisches Material ist, und - Erzeugung einer zweiten Nanostruktur (12) in der Schicht (2) aus dem zweiten Material mit einem zweiten Plasmaätzprozess, wobei das zweite Material bei der Durchführung des zweiten Plasmaätzprozesses eine grössere Ätzrate als das erste Material aufweist.

Source: US2014374377A [EN] A method for producing an antireflection coating on a substrate is specified. A first nanostructure in a first material is formed using by means of a first plasma etching process. The first material is the material of the substrate or the material of a layer made of a first organic material applied onto the substrate. A layer made of a second material is applied onto the first nanostructure, the second material is an organic material. A second nanostructure is formed in the layer made of the second material using a second plasma etching process. The second material has a higher etching rate than the first material when carrying out the second plasma etching process.