Verfahren zur gezielten Einstellung einer Tropfenkondensation auf einer Oberfläche eines Substrats mittels Ionenimplantation

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur gezielten Einstellung einer Tropfenkondensation auf einer Oberfläche (1) eines Substrats (2) sowie ein mit diesem Verfahren oberflächenstrukturiertes Substrat. Hierbei wird ein Ionenstrahl (3, 3') auf die Oberfläche (1) des Substrats (2) gerichtet zur Implantation von Ionen in die Oberfläche (1) und einer daraus resultierenden Strukturierung der Oberfläche (1). Der Ionenstrahl (3, 3') trifft unter einem gegenüber einer Oberflächennormalen (4) um zwischen 30 DEG und 80 DEG geneigten Winkel auf die Oberfläche (1). Die Oberfläche (1) wird durch den Ionenstrahl (3, 3') derart strukturiert, dass sich an der Strukturierung der Oberfläche (1) Tropfen (7, 7', 7'') einer Flüssigkeit während der Tropfenkondensation absetzen.

The present invention relates to a method for selectively setting dropwise condensation on a surface (1) of a substrate (2) and to a substrate that is structured on its surface by this method. This involves directing an ion beam (3, 3') onto the surface (1) of the substrate (2) for the implantation of ions into the surface (1) and a resultant structuring of the surface (1). The ion beam (3, 3') impinges on the surface (1) at an angle that is inclined by between 30 DEG and 80 DEG with respect to a normal (4) to the surface. The surface (1) is structured by the ion beam (3, 3') in such a way that drops (7, 7', 7'') of a liquid precipitate on the structuring of the surface (1) during the dropwise condensation.