Verfahren zur Herstellung eines kohlenstoffhaltigen Schichtsystems sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines kohlenstoffhaltigen Schichtsystems, insbesondere zur Erhöhung der Verschleissfestigkeit von Bauteilen, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens. Bei dem Verfahren werden mittels Plasmaabscheidung zunächst eine Diamantschicht und anschliessend darauf, unter Bildung einer Übergangsschicht, eine amorphe kohlenstoffhaltige Schicht abgeschieden. Die Schichten werden nacheinander abgeschieden, ohne das Vakuum und das für die Schichtabscheidung erforderliche kontinuierliche oder gepulste Plasma zwischen der Abscheidung der Schichten zu unterbrechen. Die Kombination der beiden Schichten in Verbindung mit der verwendeten Abscheidetechnik ermöglicht die Herstellung von Schichtsystemen, die zu einer hohen Verschleissfestigkeit der Bauteile führen.

The invention relates to a method for producing a carbon-containing layer system, in particular to increase the wear resistance of components, and to an apparatus for implementing the method. In the method, by means of plasma deposition, first a diamond layer (20) is deposited and then an amorphous carbon-containing layer (21) is deposited, forming a transition layer (22). The layers are deposited one after the other without the vacuum or the continuous or pulsed plasma required for the layer deposition being interrupted between the depositions of the layers. The combination of the two layers in conjunction with the deposition technique used permits the production of layer systems which lead to a high wear resistance of the components.