Options
Title
Verfahren und Vorrichtung zur Präparation einer Probe für die Mikrostrukturdiagnostik
Date Issued
2011
Author(s)
Patent No
102011111190
Abstract
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Präparation einer Probe für die Mikrostrukturdiagnostik, insbesondere für die Transmissionselektronenmikroskopie TEM, die Rasterelektronenmikroskopie oder die Rontgenabsorptionsspektroskopie, wobei eine flache, bevorzugt planparallele Scheibe entlang ihrer beiden gegenüberliegenden Oberflächen jeweils so mit einem energiereichen Strahl bestrahlt wird, dass durch strahlbedingten Materialabtrag in diese beiden Oberflächen jeweils eine bevorzugt parallel zu einer zentralen Scheibenebene verlaufende Vertiefung eingebracht wird, wobei diese beiden Vertiefungen beidseits dieser/einer zentralen Scheibenebene verlaufend so eingebracht werden, dass sich ihre Längsachsen, bei Projektion dieser Längsachsen auf diese zentrale Scheibenebene gesehen, unter einem vordefinierten Winkel [alpha] > 0 DEG , bevorzugt [alpha] >= 10 DEG ,; bevorzugt [alpha] >= 20 DEG , bevorzugt [alpha] >= 30 DEG , schneiden und dass im Schnittbereich der beiden Vertiefungen zwischen diesen ein bevorzugt bereits elektronenstrahltransparenter Materialabschnitt vordefinierter minimaler Dicke, gesehen senkrecht zu dieser zentralen Scheibenebene, als Probe verbleibt. Die Erfindung bezieht sich auch auf eine entsprechend ausgebildete Vorrichtung.
The present invention relates to a method for the preparation of a sample for microstructure diagnostics, in particular for transmission electron microscopy TEM, scanning electron microscopy or X-ray absorption spectroscopy, wherein a flat, preferably plane-parallel plate is irradiated along each of the two opposite surfaces thereof with a high-energy beam such that, as a result of radiation-induced material removal, there is formed in each of said two surfaces a depression which runs preferably parallel to a central plate plane, wherein said two depressions are formed, so as to run at both sides of said/a central plate plane, such that the longitudinal axes thereof, as viewed in a projection of said longitudinal axes onto said central plate plane, intersect at a predefined angle a > 0 DEG , preferably a = 10 DEG , preferably a = 20 DEG , preferably a = 30 DEG , and that, in the region of intersection of the two depressions, a material portion which is preferably transparent to electron beams and which is of predefined minimum thickness as viewed perpendicular to said central plate plane remains between said depressions as a sample. The invention also relates to a correspondingly designed device.
Language
de
Institute
Patenprio
DE 102011111190 A1: 20110825