Magnetron-Beschichtungsmodul sowie Magnetron-Beschichtungsverfahren

(A1) Die Erfindung betrifft eine neue Basistechnologie fuer das Magnetronsputtern von keramischen Schichten, insbesondere fuer optische Anwendungen. Das neue Konzept ermoeglicht den Aufbau von Magnetron-Sputterquellen, welcher im Vergleich zu den bekannten Verfahren, wie dem reaktiven DC-, MF- oder RF-Magnetronsputtern bzw. dem Magnetronsputtern von keramischen Targets eine erheblich verbesserte Praezision bei der Abscheidung von keramischen Schichten mit exakt definierter Rate und Homogenitaet sowie mit sehr guter Reproduzierbarkeit ermoeglicht.

DE 102009015737 A1 UPAB: 20101019 NOVELTY - The magnetron coating module (100) comprises a coating source (2), a rotating target as auxiliary substrate arranged between a first coating source and a magnetron (5, 6), where the rotating target forms cathode of the magnetron, and/or a gas space divider (4) arranged between the first coating source and the coating area. The surface of the rotating target consists of carbon or carbon-containing material deposited in slight mass on a substrate (1) during sputtering. The material of the carrier is a material with slight sputtering rate. The first coating source is a planar magnetron. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is included for a method for the production of a substrate with a magnetron-coating module. USE - Magnetron coating module useful for the production of optical coatings for applications in optics and optoelectronics. ADVANTAGE - The magnetron coating module ensures simple and efficient production of high-quality optical coatings.