Verfahren zur Abscheidung einer Oxidschicht auf Absorbern von Solarzellen, Solarzelle und Verwendung des Verfahrens

(A1) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung mindestens eines stabilen, transparenten und leitfaehigen Schichtsystems auf Chalkopyrit-Solarzellenabsorber mittels hochionisierender PVD(physical vapour deposition)-Technologie durch High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) oder High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS), eine Solarzelle sowie Verwendungszwecke des Verfahrens.

DE 102006046312 A1 UPAB: 20080417 NOVELTY - Method for depositing a transparent conducting oxide layer on a solar cell having an absorber layer comprises using pulsed magnetron sputtering. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a solar cell. USE - Method for depositing a transparent conducting oxide layer on a solar cell having an absorber layer used in the production of a solar cell (claimed). ADVANTAGE - The solar cell has improved stability.