Verfahren zum Beschichten von Substraten in Inline-Anlagen

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten von Substraten in Inline-Anlagen, bei denen sich ein Substrat durch wenigstens eine Beschichtungskammer bewegt und waehrend dieser Bewegung beschichtet wird. Bei diesem Verfahren wird zunaechst ein Modell der Beschichtungskammer gebildet, das die Aenderungen von Kammerparametern beruecksichtigt, die durch die Bewegung des Substrats durch die Beschichtungskammer verursacht werden. Sodann wird die jeweilige Position des Substrates innerhalb der Beschichtungskammern erfasst. Anschliessend werden die Kammerparameter aufgrund der Position des Substrates nach Massgabe des Modells der Beschichtungskammern eingestellt.

US2005236276 A UPAB: 20051205 NOVELTY - Coating a substrate (5) in inline installations comprises: forming a model of the coating chamber (2), which takes into consideration those changes of chamber parameters, which are caused by the movement of the substrate through the coating chamber; acquiring the position of the substrate within the coating chamber is acquired; and setting the chamber parameters are set based on the position of the substrate according to the model. USE - For coating a substrate e.g. glass plate (claimed). ADVANTAGE - Provides a coated substrate of uniform thickness in the direction of movement of the substrate through the coating chamber. It includes regulation or correction protocol from the virtual regulation circuit on the real sputter process, thus providing improved uniformity results of the coating thickness in the direction of the movement of the substrate.