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Title
Verfahren zur Reduzierung der Grenzflaechenreflexion von Kunststoffsubstraten sowie derart modifiziertes Substrat und dessen Verwendung
Date Issued
2004
Author(s)
Schulz, U.
Kaiser, N.
Munzert, P.
Scheler, M.
Uhlig, H.
Patent No
2002-10241708
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reduzierung der Grenzflaechenreflexion von Polymersubstraten mittels Ionenbeschuss, bei dem mindestens eine Substratoberflaeche mittels eines Argon/Sauerstoff- Plasmas unter Ausbildung einer Brechzahlgradientenschicht modifiziert wird.
DE 10241708 A UPAB: 20040426 NOVELTY - A process for decreasing boundary surface reflection of polymer substrates by ion bombardment in which a substrate surface is modified with an argon/oxygen plasma to form a refractive index gradient layer is new. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is included for a surface modified polymer substrate, especially polymethyl methacryate (PMMA), methyl methacrylate-containing polymer or CR39(RTM) (diethylene glycol bisallyl carbonate) treated as above. USE - The process is useful for decreasing reflection of optical elements, e.g. Fresnell lenses (claimed). ADVANTAGE - The treated polymer substrate has a high transmission rate over a wide spectral range completely independent of surface structure, and the process is simple and cost effective.
Language
de
Patenprio
DE 2002-10241708 A: 20020909