• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Patente
  4. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Roentgenstrahlung
 
  • Details
Options
Patent
Title

Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Roentgenstrahlung

Other Title
Method for generating extremely ultraviolet radiation and weak X-rays uses a discharge in gas operated on a left branch of a Paschen curve
Abstract
Verfahren zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Roentgenstrahlung mit einer auf dem linken Ast der Paschenkurve betriebenen Gasentladung, insbesondere fuer die EUV-Lithographie, bei dem ein Entladungsraum (10) vorbestimmten Gasdrucks und zwei Elektroden (11, 12) verwendet werden, die jeweils eine auf derselben Symmetrieachse (13) gelegene Oeffnung (14, 15) haben und die im Verlauf eines Spannungsanstiegs beim Erreichen einer vorbestimmten Zuendspannung (Uz) ein im Bereich ihrer Oeffnungen (14, 15) gelegenes Plasma (17) ausbilden, das eine Quelle der zu erzeugenden Strahlung (17') ist, bei dem eine Zuendung des Plasmas (17) durch Einflussnahme auf den Gasdruck und/oder durch eine Triggerung erfolgt und bei dem mit der Zuendung des Plasmas (17) ein Energiespeicher mittels der Elektroden (11, 12) Speicherenergie in das Plasma (17) einspeist, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuendung des Plasmas (17) unter Anwendung eines vorbestimmten Zuendverzugs erfolgt.

; 

EP 1248499 A UPAB: 20030124 NOVELTY - A discharge area (10) of pre-determined gas pressure and two electrodes (11,12) each have an opening set up on the same symmetrical axis (13) and form a plasma (17) in an area of their openings during an increase in voltage as they reach a preset ignition voltage. This is a source of radiation (17') to be generated, triggers plasma ignition and feeds stored energy into the plasma via the electrodes on igniting the plasma. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a device for generating extremely ultraviolet radiation and weak X-rays. USE - In EUV lithography. ADVANTAGE - The plasma is ignited with a triggering electrode (19) whose voltage before starting the triggering process is higher than that of one of the electrodes used as a cathode.
Inventor(s)
Klein, Jürgen
Neff, W.
Seiwert, S.
Bergmann, Klaus  
Link to:
Espacenet
Patent Number
2001-10117377
Publication Date
2002
Language
German
Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT  
  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024