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Patent
Title
Adaptronisches Mikrosystem und Verfahren zur Herstellung
Other Title
Adaptronic microsystem has actuating and sensing microelements embedded in matrix material, and no boundary surface at contact points between insulation and matrix material
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein adaptronisches Mikrosystem sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung. Das adaptonische Mikrosystem weist aktorische und/oder sensorische Mikroelemente, die in einem Matrixmaterial eingebettet sind, Ansteuerelemente zur Ansteuerung der Mikroelemente und eine aeussere Isolation auf. Das Mikrosystem zeichnet sich dadurch aus, dass an Beruehrungsstellen zwischen der Isolation und dem Matrixmaterial keine Grenzflaeche vorhanden ist. Das vorliegende Mikrosystem zeigt eine erhoehte Spannungsfestigkeit, einen besseren elektromechanischen Wirkungsgrad als vergleichbare bekannte Systeme sowie eine erhoehte Langzeitstabilitaet auf.
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DE 10058096 A UPAB: 20020820 NOVELTY - The system has actuating and sensing microelements (1) embedded in a matrix material (2), control elements (3) for controling the microelements and external insulation (2a). There is no boundary surface at contact points between the insulation and the matrix material. The insulation is formed by an outer region of the matrix material. DETAILED DESCRIPTION - INDEPENDENT CLAIMS are also included for the following: an arrangement with several stacked microsystems and a method of manufacturing a microsystem. USE - For many application areas requiring sensors or actuators of reduced volume. ADVANTAGE - Increased electrical strength and higher electromechanical efficiency.
Inventor(s)
Gesang, T.
Knaebel, H.
Maurieschat, U.
Behrens, C.
Patent Number
2000-10058096
Publication Date
2002
Language
German