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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Verfahren zur Vakuumbeschichtung bandfoermiger transparenter Substrate
 
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Patent
Title

Verfahren zur Vakuumbeschichtung bandfoermiger transparenter Substrate

Other Title
Process for vacuum coating strip-like transparent substrates, comprises coating the substrates with a reflective layer and then a transparent layer.
Abstract
Bei der Abscheidung von optischen Mehrfachschichtsystemen wird die Schichtgleichmaessigkeit haeufig ueber eine Prozessfuehrung realisiert, die mit Hilfe der Ueberwachung optischer Schichtparameter stabilisiert wird. Bei Mehrfachschichtsystemen, die mehrere transparente Einzelschichten enthalten, wird diese Ueberwachung mit wachsender Anzahl der Einzelschichten zunehmend komplizierter, da die Messwerte durch stoerende Effekte des Untergrundes - d. h. tiefer liegender Schichten, der Kuehlwalze oder des Substrates - beeinflusst werden, sich den optischen Schichtparametern nicht mehr eindeutig zuordnen lassen. Erfindungsgemaess werden ausgewaehlte Bereiche des Substrates mit Schichten geringer optischer Transmission beschichtet, bevor ein weitere Schicht des Mehrfachschichtsystems abgeschieden wird. Dadurch werden die Einzelschichten des Mehrfachschichtsystems in den metallisierten Bereich optisch voneinander entkoppelt. Somit sind die optischen Schichtparameter der jeweils zuletzt abgeschiedenen Einzelschicht einer fuer die Prozessfuehrung noetigen Ueberwachung zugaenglich. Das bevorzugte Anwendungsgebiet ist die Herstellung optischer Mehrfachschichtsysteme fuer optische Filter.

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DE 10019258 C UPAB: 20011211 NOVELTY - Process for vacuum coating strip-like transparent substrates comprises coating the substrates with a transparent layer. During or after coating with the transparent layer, light reflected from the coated substrate is measured on sites coated with a reflection layer to obtain information about the transparent layer so that process and/or layer parameters can be controlled. USE - Used for coating polymer films, paper, textile materials, and other strip-like substances. ADVANTAGE - Exact adjustment of the process parameters can be carried out.
Inventor(s)
Fahland, M.
Zeissig, G.
Charton, C.
Raebisch, M.
Karlsson, P.
Link to:
Espacenet
Patent Number
2000-10019258
Publication Date
2001
Language
German
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
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