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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie
 
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2019
Doctoral Thesis
Title

Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie

Other Title
Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Siliziumtechnologie
Abstract
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
Thesis Note
Zugl.: München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2018
Author(s)
Altmannshofer, Stephan
Person Involved
Kutter, C.
Eisele, I.
Publisher
Fraunhofer Verlag  
Publishing Place
Stuttgart
Language
German
Fraunhofer-Einrichtung für Mikrosysteme und Festkörper-Technologien EMFT  
Keyword(s)
  • electronic devices & materials

  • plasma physics

  • solid state chemistry

  • Mikrowellenplasma

  • PECVD

  • Halbleitertechnologie

  • Spektralellipsometer

  • Epitaxie

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