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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie
 
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2019
Dissertation
Titel

Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie

Alternative
Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Siliziumtechnologie
Abstract
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
ThesisNote
Zugl.: München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2018
Author(s)
Altmannshofer, Stephan
Beteiligt
Kutter, C.
Eisele, I.
Verlag
Fraunhofer Verlag
Verlagsort
Stuttgart
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Language
Deutsch
google-scholar
EMFT
Tags
  • electronic devices & ...

  • plasma physics

  • solid state chemistry...

  • Mikrowellenplasma

  • PECVD

  • Halbleitertechnologie...

  • Spektralellipsometer

  • Epitaxie

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