Dreidimensionale Erfassung von Partikeln

Reine Prozessgeräte zur Herstellung von Mikrochips, Photovoltaikdünnschichtsubstraten, optischen Bauteilen, organischen LEDs und Displays für Mobiltelefone werden bei atmosphärischen Anwendungen permanent mit hochreiner Luft gespült oder im Vakuum betrieben. Innerhalb der Prozessgeräte treten funktionsbedingt verschiedene Partikelquellen auf, diese können auf verschiedene Ursachen zurückgeführt werden. Zur räumlichen Erfassung der Partikel in hochreinen Prozessgeräten wurde am Fraunhofer IPA ein System entwickelt. Dieses System gestattet es, den Raumbezug zwischen Partikelquellen und kritischen Bereichen des Partikelniederschlages herzustellen. Das Anforderungsprofil, die Konzeption und den Systementwurf verantwortete Frank Bürger, Softwareentwurf und Programmierung sind von Mathias Brückner.