• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Artikel
  4. Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)
 
  • Details
  • Full
Options
2011
Journal Article
Title

Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)

Abstract
MO Exposure Optics, einen neue Beleuchtungsoptik für Mask Aligner, ermöglicht es ein nahezu beliebiges Winkelspektrum des Beleuchtungslichtes (Customized Illumination) zu erzeugen und damit die Auflösung der Lithographie gezielt zu verbessern. Eine weitere Verbesserung lässt sich durch Optical Proximity Correction (OPC), d.h. eine gezielte Optimierung der Ecken und Kanten der Maskenstrukturen und dem Hinzufügen von sogenannten Sub Resolution Assist Features (SRAFs) erreichen. Die Kombination von beiden Technologien wird als Source-Mask Optimization (SMO) bezeichnet. Diese aus dem Front-End (DUV Stepper, Scanner) wohl bekannte Technologie steht nun auch für Mask Aligner Lithographie zur Verfügung. Grundvoraussetzung für eine erfolgreiche Umsetzung in die Produktion ist eine vollständige Modellierung und Simulation der gesamten Prozesskette von der Beleuchtung bis zum Photoresist. Diese Werkzeuge für eine "holistische" Lithographie im Mask Aligner sind nun vorhanden. Simulation und experimentelle Ergebnisse werden verglichen. Im Ausblick werden weiterführende Lithographiemethoden wie Grauwert- Pinhole- und Talbotlithographie vorgestellt.
Author(s)
Vogler, U.
Bramati, A.
Völkel, R.
Hornung, M.
Zoberbier, R.
Motzek, M.
Erdmann, A.
Stürzebecher, L.
Zeitner, U.
Journal
DGaO-Proceedings. Online journal  
Conference
Deutsche Gesellschaft für Angewandte Optik (DGaO Jahrestagung) 2011  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024