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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Lithographieverfahren
 
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2005
Journal Article
Titel

Lithographieverfahren

Abstract
Lithographieverfahren werden vor allem in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Sub-Mikrostrukturen auf einem geeigneten Trägermaterial eingesetzt. Zu den parallelen Strukturierungsmethoden gehören Optische Lithographie, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Projektion, Atomlithographie sowie Röntgenlithographie. Serielle Verfahren sind das Ionenstrahl- und das Elektronenstrahlschreiben sowie Rastersonden-Lithographie. Unter dem Begriff Soft Lithographie werden solche Strukturierungsverfahren zusammengefasst, die zur Strukturerzeugung Stempel anstelle von Strahlung verwenden.
Author(s)
Notthoff, C.
Fraunhofer-Institut für Naturwissenschaftlich-Technische Trendanalysen INT
Zeitschrift
Strategie und Technik
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Language
German
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Fraunhofer-Institut für Naturwissenschaftlich-Technische Trendanalysen INT
Tags
  • Lithographie

  • lithography

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