Options
2005
Journal Article
Titel
Lithographieverfahren
Abstract
Lithographieverfahren werden vor allem in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Sub-Mikrostrukturen auf einem geeigneten Trägermaterial eingesetzt. Zu den parallelen Strukturierungsmethoden gehören Optische Lithographie, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Projektion, Atomlithographie sowie Röntgenlithographie. Serielle Verfahren sind das Ionenstrahl- und das Elektronenstrahlschreiben sowie Rastersonden-Lithographie. Unter dem Begriff Soft Lithographie werden solche Strukturierungsverfahren zusammengefasst, die zur Strukturerzeugung Stempel anstelle von Strahlung verwenden.

Language
German