• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Artikel
  4. Metallhaltige Germaniumschichten als Hochohmwiderstandsmaterial
 
  • Details
  • Full
Options
1993
Journal Article
Title

Metallhaltige Germaniumschichten als Hochohmwiderstandsmaterial

Abstract
Diskrete Widerstandsbauelemente bestehen aus einem Träger, auf den eine Fuktionsschicht mit genau definierten und eng tolerierten elektrischen Eigenschaften aufgebracht wird. Mit der allgemeinen Tendenz zur Miniaturisierung nehmen die Anforderungen an diese Funktionsschicht insbesondere in Bezug auf Hochohmigkeit und Langzeitstabilität stetig zu. Die im PVD-Verfahren hergestellten metallhaltigen Germaniumschichten scheinen nach ersten Untersuchungen eine vielversprechende Altemative zu den heute in der Massenproduktion etablierten Schichtsystemen wie zum Beispiel NiCr oder CrSi darzustellen.
Author(s)
Dimigen, H.
Hübsch, H.
Taube, K.
Thyen, R.
Journal
Dünne Schichten  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Keyword(s)
  • electrical resistance

  • elektrischer Widerstand

  • Flächenwiderstand

  • metal containing germanium film

  • metallhaltige Germaniumschicht

  • PVD

  • resistivity

  • sheet resistance

  • spezifischer Widerstand

  • TCR

  • temperature coefficient

  • Temperaturkoeffizient

  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024