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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Lithographieverfahren
 
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2005
Journal Article
Title

Lithographieverfahren

Abstract
Lithographieverfahren werden vor allem in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Sub-Mikrostrukturen auf einem geeigneten Trägermaterial eingesetzt. Zu den parallelen Strukturierungsmethoden gehören Optische Lithographie, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Projektion, Atomlithographie sowie Röntgenlithographie. Serielle Verfahren sind das Ionenstrahl- und das Elektronenstrahlschreiben sowie Rastersonden-Lithographie. Unter dem Begriff Soft Lithographie werden solche Strukturierungsverfahren zusammengefasst, die zur Strukturerzeugung Stempel anstelle von Strahlung verwenden.
Author(s)
Notthoff, Claudia
Fraunhofer-Institut für Naturwissenschaftlich-Technische Trendanalysen INT  
Journal
Strategie und Technik  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Naturwissenschaftlich-Technische Trendanalysen INT  
Keyword(s)
  • Lithographie

  • lithography

  • Elektronenstrahl-Projektion

  • electron projection lithography

  • Elektronenstrahlschreibe

  • direct-write electron-beam

  • Ionenstrahl-Projektion

  • ion beam projection lithography

  • Ionenstrahlschreibe

  • ion beam direct-write deposition

  • Atomstrahl-Lithographie

  • atom lithography

  • soft lithography

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