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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Auflösungsverbesserung der optischen Lithographie mit transparenten phasenschiebenden Masken zur Herstellung von Lackstrukturen im Sub-0.25-Mikrometer-Bereich
 
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1996
Diploma Thesis
Title

Auflösungsverbesserung der optischen Lithographie mit transparenten phasenschiebenden Masken zur Herstellung von Lackstrukturen im Sub-0.25-Mikrometer-Bereich

Thesis Note
Isny, FH, Dipl.-Arb., 1996
Author(s)
Lengsfeld, M.
Language
German
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Keyword(s)
  • edge phase shift

  • Lithographie

  • transparente Maske

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