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2007
Conference Paper
Title
AAS und ICP in der galvanischen Anwendung
Other Title
Applications of Atomic Absorption spectroscopy (AAS) and Inductively Coupled Plasma (ICP) in electroplating processes
Abstract
In diesem Vortrag werden die physikochemischen Grundlagen der analytischen Anwendungen von Atomabsorption und Atomemission erläutert. Über den Aufbau von Atomabsorptions- und Atomemissionsspektrometern werden die jeweiligen Messprinzipien vorgestellt und mit den jeweils spezifischen Anregungsquellen in Beziehung gesetzt und daran das Prinzip der quantitativen Spurenanalytik erläutert. Dabei werden die Abhängigkeiten der Konzentrationsbestimmungen einzelner Elemente von unterschiedlichen Einflussgrößen wie Temperatur, Matrixzusammensetzung, Kalibrierung und weiteren Interferenzen aufgezeigt. Anhand von vier Fallbeispielen der Atomabsorptionsspektroskopie wird gezeigt, dass 1. eine hohe Reinheit des verwendeten Wassers unumgänglich ist (nicht immer einfach zu realisieren); 2. die Kalibrierung mit Hilfe von Standardlösungen unterschiedlicher Konzentration den kritischen Teil der Messung darstellt; 3. für unterschiedliche Elemente in variierenden Konzentrationen die Kalibrierungen an die Matrix angepasst werden müssen und 4. Mehrfachbestimmungen (min. 3-5 pro Analyt) entscheidend sind, um die Standard-abweichungen der Messungen gering zu halten. Ferner werden Vor- und Nachteile beider Messmethoden gegenübergestellt. Es wird zudem die Empfehlung ausgesprochen, erhaltene Messergebnisse ständig anhand von Blindversuchen, Kalibrierlösungen und weiteren Kontrollversuchen zu überprüfen, da die Messergebnisse im hohen Maße auch von der Beschaffenheit des Analyten (Matrixeffekte) abhängig sind.