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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Chic und funktional. Dünne Funktionsschichten für die Veredelung großflächiger Konstruktionsmaterialien im Innen- und Außenbereich
 
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2007
Journal Article
Title

Chic und funktional. Dünne Funktionsschichten für die Veredelung großflächiger Konstruktionsmaterialien im Innen- und Außenbereich

Other Title
Chic and functional - thin functional coatings for improvement of large-area construction materials indoors and outdoors
Abstract
Vorgestellt werden dünne Funktionsschichten für die Veredlung großflächiger Konstruktionsmaterialien im Innen- und Außenbereich. Zu den Beschichtungstechnologien zählen als PVD-Verfahren das Puls-Magnetron-Sputtern, die Plasmaaktivierte Hochrate-Bedampfung und die Sol-Gel Beschichtung als nicht PVD-Verfahren. Alle genannten Verfahren sind für die typische Schichttechnik geeignet. Als Anwendungsbeispiele werden die easy-to-clean-Beschichtung (Reinigungserleichterung) mit Titandioxid und dünne farbige Interferenzschichten. Die mit dem Puls-Magnetron- Sputtern aufgebracht werden, aufgeführt. Anwendungsfelder sind hauptsächlich im Sanitärbereich, bei Kunst- und Gebrauchsgegenständen, in der Automobilindustrie und im Architekturbereich zu sehen. Die Basisverfahren liegen vor.

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A survey demonstrating the performance of reactive in-line pulse magnetron sputtering, plasma-assisted high-rate phys. vapor deposition, and sol-gel-based coating techniques for producing easy-to-clean TiO2 coatings or thin colored interference layers.
Author(s)
Rögner, F.-H.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Metzner, C.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Scheffel, B.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Fietzke, F.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Frach, P.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Hübner, C.
Fraunhofer-Institut für Chemische Technologie ICT  
Journal
Metalloberfläche : mo  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Keyword(s)
  • dünne Schicht

  • Puls-Magnetron-Sputtern

  • plasmaaktivierte Hochrate-Bedampfung

  • Funktionsschicht

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