Neue In-situ-Messverfahren für hohe Prozesstemperaturen

Preußner, Thomas; Klein, Marcus; Graf, Annett

doi:10.1007/s35144-023-2556-z

2023

Journal Article

Abstract

Erstmals ist es gelungen, kontaktlose In-situ-Messungen unter Hochvakuumbedingungen bei Temperauren von bis zu 220 °C zu realisieren. Per Hochfrequenz-Wirbelstrommessung lassen sich so Schichtwiderstand, Schichtleitfähigkeit oder Metallschichtdicke direkt nach heißen Schichtabscheide- oder Schichtmodifizierungsprozessen berührungslos bestimmen.