2016
Conference Paper
Title

Patterning and Imaging with Electrons: Assessing Multi-Beam SEM for e-Beam Structured CMOS Samples

Author(s)
Garbowski, Tomasz
Carl Zeiss Microscopy GmbH <Oberkochen, Germany>
Panteleit, Friedhelm
Carl Zeiss Microscopy GmbH <Oberkochen, Germany>
Dellemann, Gregor
Carl Zeiss Microscopy GmbH <Oberkochen, Germany>
Gutsch, Manuela
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Hohle, Christoph  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Reich, Elke
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Rudolph, Matthias  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Steidel, Katja
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Thrun, Xaver
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Zeidler, Dirk
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Mainwork
Conference
DOI
Language
English