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Konferenzschrift
Fortschritte in der Anwendung des tiefen Siliziumätzens (DRIE).
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2010
Conference Paper
Title
Fortschritte in der Anwendung des tiefen Siliziumätzens (DRIE).
Author(s)
Küchler, Matthias
Hofmann, Lutz
Hahn, R.
Bertz, Andreas
Geßner, Thomas
Mainwork
Mikro-System-Technik Chemnitz 2010. Mikromechanik & Mikroelektronik
Conference
Chemnitzer Fachtagung Mikromechanik & Mikroelektronik 2010
Language
German
Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
