Praktikumsbericht zur UV-Nanoimprint-Lithografie

Die Nanoimprint-Lithografie wird immer auffälligere, eine neue Mehtode für die Fabrikation im Bereich Mikro-Elektro-Mechanischer-System (MEMS). Im Vergleich zu den traditionellen optischen Lithografietechniken kann die Nanoimprint-Lithografie komplexere Strukturen mit größerem Höheverhältnis herstellen. Weiterin besitzt die Nanoimprint-Lithografie geringere Kosten, eine gute Genauigkeit, hohe Reproduzierbarkeit, hohe Auflösung und Produktivität[1] [2]. Die am häufigsten verwendeten Variationen der Nanoimprint-Lithografie sind jeweils UV-Licht basierend und thermisch basierend. Die Verwendung der T-NIL lässt sich nur unter Akzeptanz der entsprechenden thermischen Deformationen verwenden[2]Im Gegensatz dazu kann die UV-NIL bei Raumtemperatur durchgeführt werden. Deswegen kann eine thermische Deformation während UV-NIL vermieden werden. Während dieses Praktikums wird die UV-NIL mit unterschiedlichen Antihaftschichten, Haftvermittlern, Prägeresisten und die Parametereinflüsse auf dem gesamten Prozess untersucht und mit NSS simuliert, damit die optimalen Parametern ausgesucht werden können.