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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Oberflächenmikromechanik für die Herstellung von Silizium-Drucksensoren
 
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1992
Conference Paper
Title

Oberflächenmikromechanik für die Herstellung von Silizium-Drucksensoren

Abstract
In diesem Beitrag werden kapazitive Hochdrucksensoren vorgestellt, die mit dem Verfahren der Silizium-Oberflächenmikromechanik hergestellt werden. Sensoren mit Membrandurchmessern von 26 fm, 30 fm und 40 fm zeigen Empfindlichkeiten von 3, 5 und 20 fF/bar. Durch Verwendung eines Referenzelementes kann die Temperaturabhängigkeit auf 0,03 %/xC reduziert werden. Die Sensoren zeigen auch nach 200000 Lastwechseln zwischen 0 bar und 300 bar keinerlei Änderungen im Nullpunkt oder der Empfindlichkeit.
Author(s)
Dudaicevs, H.
Kandler, M.
Mokwa, W.
Mainwork
Sensoren, Technologie und Anwendung 1992. 6. GMA/ITG-Fachtagung  
Conference
Fachtagung Sensoren, Technologie und Anwendung 1992  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS  
Keyword(s)
  • capacitive transducer

  • CMOS-Technik

  • CMOS-technology

  • Druckmessung

  • kapazitives Meßverfahren

  • pressure measurement

  • Pulsdauermodulation

  • pulse time modulation

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