Organische Kontaminationen auf Oberflächen und in der Reinraumluft - Hintergründe, Messverfahren und Ergebnisse

Organische Kontaminationen auf technischen Oberflächen und in der Reinraumluft spielen besonders in der Halbleiterindustrie und der Lackiertechnik eine immer bedeutendere Rolle. Geringste Verunreinigungen auf einem Silizium-Wafer können zu irreversibler Produktschädigung führen. Auf Oberflächen kondensierte oder adsorbierte organische Verunreinigungen, beispielsweise Siloxane oder Phthalate, verändern das Benetzungsverhalten der Oberfläche. Ein Lackauftrag kann dadurch erschwert bis unmöglich werden. Ausgasungen aus Werkstoffen und Materialien für den Reinraumbau (Böden, Wand, Decke, Dichtungswerkstoffe, Maschineneinhausungen, Klimatechnik) spielen dabei eine wichtige Rolle als Quelle sogenannter luftgetragener chemischer Verunreinigungen (gemäß Nomenklatur nach ISO 14644-8: ACC, airborne contamination by chemicals). Diese gasförmigen Moleküle können auf technischen Oberflächen kondensieren oder adsorbieren und somit zur schädigenden Kontamination der Oberflächen führen(gemäß Nomenklatur nach ISO 14644-8: SCC, surface contamination by chemicals). Beispielhafte Schadenszenarien und Messmethoden werden aufgezeigt. Ein standardisiertes Verfahren zur Klassifizierung der Ausgasungseigenschaften von Materialien beginnend von der Probenvorbereitung und -Lagerung bis hin zur gezielten Reinaumplanung/Bau und der letztendlichen Verifikation der Zielvorgaben hinsichtlich der Belastung mit ACC wird vorgestellt.