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Fraunhofer-Gesellschaft
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2007
Conference Paper
Titel

Messprozesse besser verstehen

Titel Supplements
Simulation optischer Messsysteme zur Unsicherheitsermittlung
Alternative
Better understanding of measurement processes. Simulation of optical measuring systems for the determination of measurement uncertainty
Abstract
In diesem Beitrag werden die Untersuchungen zum virtuellen Interferenzmikroskop vorgestellt. Am Fraunhofer IPT wurde eine Simulationsumgebung realisiert, mit der optische Messverfahren und im Besonderen optische Strahlengänge simuliert werden können. Mit dieser Software sollen Effekte von äußeren Einflüssen auf das Messergebnis von Interferenzmikroskopen untersucht werden. Das virtuelle Interferenzmikroskop' basiert auf nicht-sequentiellem Raytracing. Um die interferometrischen Effekte zu berücksichtigen, wird innerhalb der Strahlverfolgung die optische Pfadlänge analysiert und die resultierenden Wellenfronten mit der korrekten Phasenlage rekonstruiert. Mit dieser Simulationsumgebung ist es möglich, einzelne Fehleremflüsse auf den Messprozess gezielt herauszugreifen und zu analysieren. Bei den aktuellen Untersuchungen stehen besonders die Einflüsse in der Fertigungsumgebung im Fokus. Innerhalb von Produktionsprozessen soll möglichst prozessnah bzw. prozessintegriert gemessen und geprüft werden. Das kann bei den Messungen zu unerwünschten Vibrationen führen, die sich negativ auf das Messergebnis auswirken. Mit der entwickelten Simulationsumgebung werden verschiedene Einflussfaktoren analysiert, um deren Beiträge zur Messunsicherheit abzuschätzen. Mit derartigen Betrachtungen wird das Verständnis des Messprozesses der Interferenzmikroskopie verbessert und somit die Grundlage zu einem breiten und sicheren Einsatz dieses Verfahrens gelegt. Entnommen aus <a_href="http://www.fiz-technik.de/db/b_tema.htm" target="_blank">TEMA</a>
Author(s)
Koerfer, F.
Schmitt, R.
Hauptwerk
XXI. Messtechnisches Symposium des Arbeitskreises der Hochschullehrer für Messtechnik e.V
Konferenz
Messtechnisches Symposium 2007
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Language
German
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Fraunhofer-Institut für Produktionstechnologie IPT
Tags
  • Optisches Messverfahren

  • Simulation

  • Interferenzmikroskop

  • Messunsicherheit

  • Oberflächentopographie

  • Oberflächenbeschaffenheit

  • Störgröße

  • Interferometrie

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