Der Aufbau von Masken, die in der Roentgenstrahllithographie eingesetzt werden, unterscheidet sich grundlegend von dem der lichtoptischen Masken. Das hohe Aspektverhaeltnis (groesser 3) der Absorberstrukturen auf den 1:1 Roentgenmasken erfordert neue Verfahren fuer die Defektreparatur. Im vorliegenden Beitrag wird ueber Versuche zur Beseitigung opaker Defekte auf Roentgenmasken mit fokussierten Ionenstrahlen berichtet. Dabei wurden Effekte, die die erreichbare Aufloesung der Reparatur begrenzen (Redeposition, Homogenitaet des Sputtervorganges, Festlegung des Defektbereiches) untersucht. (IMT)
