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1990
Book Article
Titel
Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611
Abstract
Auf Oberflächen metallischer Werkstoffe werden mit einem laserstrahlungsunterstützten PVD-Verfahren (LPVD-Verfahren) Hartstoff- und Keramikschichten aufgebracht. Eine LPVD-Versuchsanlage erlaubt die Untersuchung der physikalischen Prozesse. Typische Schichtdecken der Al2O3-Schichten (gepulste TEA-CO2-Laserstrahlungsquelle) bzw. TiN-Schichten (kontinuierliche CO2-Laserstrahlungsquelle) liegen im Bereich von einigen mym bei Abscheidungszeiten von einigen 10 Minuten.