• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Artikel
  4. Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611
 
  • Details
  • Full
Options
1990
Book Article
Title

Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611

Abstract
Auf Oberflächen metallischer Werkstoffe werden mit einem laserstrahlungsunterstützten PVD-Verfahren (LPVD-Verfahren) Hartstoff- und Keramikschichten aufgebracht. Eine LPVD-Versuchsanlage erlaubt die Untersuchung der physikalischen Prozesse. Typische Schichtdecken der Al2O3-Schichten (gepulste TEA-CO2-Laserstrahlungsquelle) bzw. TiN-Schichten (kontinuierliche CO2-Laserstrahlungsquelle) liegen im Bereich von einigen mym bei Abscheidungszeiten von einigen 10 Minuten.
Author(s)
Kreutz, E.W.
Krösche, M.
Sung, H.
Voss, A.
Leyendecker, T.
Lemmer, O.
Erkens, G.
Mainwork
Dünnschichttechnologien '90. Bd.2  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT  
Keyword(s)
  • Abscheidungszeit

  • Ionenplattieren

  • Kathodenzerstäubung

  • Keramikschicht

  • Laserstrahlungsquelle

  • PVD-Verfahren

  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024