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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611
 
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1990
Book Article
Titel

Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611

Abstract
Auf Oberflächen metallischer Werkstoffe werden mit einem laserstrahlungsunterstützten PVD-Verfahren (LPVD-Verfahren) Hartstoff- und Keramikschichten aufgebracht. Eine LPVD-Versuchsanlage erlaubt die Untersuchung der physikalischen Prozesse. Typische Schichtdecken der Al2O3-Schichten (gepulste TEA-CO2-Laserstrahlungsquelle) bzw. TiN-Schichten (kontinuierliche CO2-Laserstrahlungsquelle) liegen im Bereich von einigen mym bei Abscheidungszeiten von einigen 10 Minuten.
Author(s)
Kreutz, E.W.
Krösche, M.
Sung, H.
Voss, A.
Leyendecker, T.
Lemmer, O.
Erkens, G.
Hauptwerk
Dünnschichttechnologien '90. Bd.2
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Language
German
google-scholar
Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT
Tags
  • Abscheidungszeit

  • Ionenplattieren

  • Kathodenzerstäubung

  • Keramikschicht

  • Laserstrahlungsquelle

  • PVD-Verfahren

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