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Fraunhofer-Gesellschaft
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Patent
Title

Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Barriereschichtsystems

Other Title
METHOD FOR DEPOSITING A TRANSPARENT BARRIER LAYER SYSTEM
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines transparenten Barriereschichtsystems, indem in einer Vakuumkammer auf einer transparenten Kunststofffolie mindestens zwei transparente Barriereschichten und eine zwischen den beiden Barriereschichten angeordnete transparente Zwischenschicht abgeschieden werden, wobei zum Abscheiden der Barriereschichten Aluminium verdampft und gleichzeitig mindestens ein erstes Reaktivgas in die Vakuumkammer eingelassen wird und dass zum Abscheiden der Zwischenschicht Aluminium verdampft und gleichzeitig mindestens ein zweites Reaktivgas und eine gasförmige oder dampfförmige organische Komponente in die Vakuumkammer eingelassen werden.

; 

The invention relates to a method for producing a transparent barrier layer system, wherein in a vacuum chamber at least two transparent barrier layers and a transparent intermediate layer disposed between the two barrier layers are deposited on a transparent plastic film, wherein for deposition of the barrier layers aluminium is vaporised and simultaneously at least one first reactive gas is introduced into the vacuum chamber and wherein for deposition of the intermediate layer aluminium is vaporised and simultaneously at least one second reactive gas and a gaseous or vaporous organic component are introduced into the vacuum chamber.
Inventor(s)
Günther, S.
Meyer, B.
Straach, S.
Kühnel, T.
Bunk, S.
Schiller, N.
Link to Espacenet
http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&locale=en_EP&FT=D&CC=DE&NR=102011017404A1
Patent Number
102011017404
Publication Date
2012
Language
German
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
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