Device and method for coating substrates with planar or shaped surfaces by magnetron sputtering

Erfindungsgemäß wird eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten mit planaren oder geformten Oberflächen mittels Magnetron-Sputtern bereitgestellt, mit der beliebig geformte Oberflächen, zum Beispiel Linsen, Asphären oder Freiformflächen mit einem einstellbaren Schichtdickenprofil beschichtet werden können, so dass eine Schichtfunktion auf der im wesentlichen ganzen Fläche erhalten bleibt. Ebenso wird ein solches Verfahren bereitgestellt.